1.前处理:晶圆清洗、去氧化层、活化表面。
2.装载:将晶圆固定于旋转载具,浸入镀液。
3.电镀:
施加电流,金属离子在晶圆表面还原沉积。
旋转载具确保镀液流动均匀,消除厚度差异。
4.后处理:镀层退火、清洗、干燥。
1.高均匀性:
旋转+喷淋设计减少“边缘增厚”现象,镀层均匀性达±5%以内。
2.精密控制:电流密度精度:±1 mA/cm²;温度波动:±0.5℃。
3.洁净度保障:设备内建HEPA过滤系统,满足Class 1000以下洁净环境。
4.高效生产:支持多片晶圆同时处理(如6片/批次),UPH(每小时产量)可达50~100片。
1.先进封装:2.5D/3D IC的TSV镀铜、Fan-Out封装中的RDL金属化。
2.功率器件:IGBT、MOSFET背面金属化(镀银、镀镍)。
3.传感器与MEMS:微结构表面镀金,提升电气性能与可靠性。 喷淋式电镀设备利用高压喷头将电解液均匀喷洒在工件表面,加速离子交换,提高电镀效率,形状复杂的工件。福建高速电镀设备
1.前处理系统
对工件表面进行清洗、除油、除锈、磷化(或钝化)等处理,确保表面洁净并增强涂层附着力。
设备包括:预清洗槽、脱脂槽、酸洗槽、磷化槽、水洗槽、烘干炉等。
2.电泳槽系统
电泳主槽:容纳电泳液,工件在此进行涂装,槽体需恒温控制(通常 20~30℃)。
循环过滤系统:保持电泳液均匀,过滤杂质,防止颗粒污染涂层。
电源系统:提供直流电源,控制电压、电流参数,调节涂层厚度和质量。
超滤(UF)系统:分离电泳液中的水分和杂质,回收涂料并净化废水。
3.后处理系统
清洗工序:电泳后水洗(超滤水洗、纯水洗)去除工件表面残留的电泳液,避免杂质影响涂层质量。
烘干固化线:通过烘箱或隧道炉对湿膜进行高温固化(通常 160~200℃),形成坚硬的漆膜。
4.自动化控制系统
集成 PLC 或工业计算机,控制各工序的时间、温度、电压、液位等参数,实现全流程自动化。
配备输送系统(如悬挂链、滚床、机械手),实现工件的连续传输。 江苏电镀设备厂家直销贵金属电镀设备配备高精度电源与净化系统,严格控制金、银镀层纯度,满足珠宝及电子芯片的高要求。
阳极氧化线的特点
1.膜层与基体一体化:氧化膜为金属自身氧化物,结合力远超电镀或喷涂的外来涂层,不易脱落。
2.功能可定制化:
防腐:致密膜层隔绝腐蚀介质,铝阳极氧化膜耐盐雾可达 500 小时以上。
耐磨:硬质阳极氧化膜(厚度 50~200μm)硬度接近陶瓷,适用于活塞、齿轮等机械部件。
装饰:通过染色或电解着色实现多样化外观(如手机壳、建筑铝型材)。
绝缘 / 散热:高电阻率膜层用于电器绝缘,多孔结构可提升散热效率(如 LED 灯具)。
3.环保特性:传统铬酸工艺含重金属,需配套废水处理;现代主流为硫酸阳极氧化 + 无铬封孔,环保性提升。4.材料适应性:主要针对铝、镁、钛等轻金属,钢铁等材料因氧化膜疏松少用。
废水废气处理设备是否集成循环过滤系统(如RO反渗透膜)?能否达到《电镀污染物排放标准》(GB21900-2008)。酸雾收集装置(如侧吸风+喷淋塔)是否完善,避免车间环境污染。安全设计防漏电保护(双重绝缘+接地报警)、紧急停机按钮、防腐蚀外壳等。符合国家《机械电气安全标准》(GB5226.1)。
初期投入
设备价格:小型手动线约5-15万元,全自动线可达百万元以上。
配套成本:废水处理设施、车间改造、环评审批费用。
运营成本
能耗(电费占成本30%-50%)、耗材(阳极材料、滤芯)、人工费用。
维护成本:易损件(加热管、泵)更换频率及价格。
回报周期
高附加值产品(如镀金饰品)可能3-6个月回本,普通镀锌件需1-2年。 挂镀导电装置采用磷铜合金挂具,表面镀硬铬增强导电性,减少接触电阻导致的镀层不均问题。
是一种高效、智能化的电镀生产系统,通过龙门机械手实现工件的全流程自动化传输与精细加工,广泛应用于金属表面处理行业。
一、设备结构与组成龙门架与机械手龙门桁架:横跨电镀槽上方,搭载伺服驱动的机械臂,实现三维空间内的精确定位(重复精度±0.1mm)。夹具系统:根据工件形状(如螺丝、连接器、汽车零件)定制夹具,确保抓取稳固。电镀槽组包含 前处理槽(除油、酸洗)、电镀槽(镀锌、镀镍等)、后处理槽(钝化、烘干)等,槽位数量可按工艺扩展(如8~20槽)。槽内配备液位传感器、温控装置及循环过滤系统,保障镀液稳定性。控制系统PLC+HMI:控制器预设工艺参数(电流、时间、温度),触摸屏实时监控运行状态。智能调度算法:优化机械手路径,减少空载时间,提升产能(如每小时处理500~2000件) 滚镀后的离心甩干设备内置防滑衬垫,高速旋转时固定工件,避免碰撞损伤并加速脱水。福建高速电镀设备
刷镀设备通过手持导电笔局部涂覆电解液,适用于机械零件磨损修复或特殊形状工件的局部电镀。福建高速电镀设备
挂镀工艺:晶圆固定在挂具上,浸入电镀液,通过精细控制电流、电压及溶液成分,在表面沉积均匀金属层。
电镀槽:耐腐蚀材质,配备温控、循环过滤系统,维持镀液均匀性
挂具与阳极:钛或铂金阳极,挂具设计适配晶圆尺寸,确保电场分布均匀
自动化传输:机械臂自动上下料,减少人工污染风险
控制系统:PLC/计算机实时调控电流密度、电镀时间、pH值等参数
高均匀性:通过脉冲电镀或水平电镀技术(如ECP),减少边缘效应,实现亚微米级镀层均匀性
低缺陷率:镀液杂质控制(<0.1ppm)与膜厚在线监测,降低孔洞、结节等缺陷
高产能:支持多晶圆并行处理
铜互连:在逻辑芯片中沉积多层铜导线,替代传统铝工艺以降低电阻
TSV填充:为3D封装提供垂直导电通道,实现芯片堆叠
凸块电镀:在晶圆表面形成锡、铜柱凸块,用于Flip-Chip键合
RDL(重布线层):沉积铜层实现芯片I/O端口的重新布局
半导体挂镀设备通过精密电化学控制与自动化技术,解决了纳米级金属沉积的均匀性与可靠性难题,是先进芯片制造与封装的装备。其性能直接关联芯片的导电性、散热及良率 福建高速电镀设备
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